黄火林赴韩国参加学术会议(访问)总结校内公示

2019-06-21 作者:王天卓


 

2019 Collaborative Conference on Materials ResearchCCMR)国际会议大会主席、韩国Kwangwoon UniversityJihoon Lee教授邀请,新葡的京集团35222vip黄火林副教授于201962日至201967日赴韩国参加CCMR国际会议,并作特邀报告。

一、出访人员

黄火林 副教授

二、出访国家、任务、日程安排、往返航线

201962日 离开大连,抵达韩国首尔

201963-7日 特邀学术报告、技术研讨

201967日 参观大学实验室、合作洽谈

201967日 离开韩国,返回大连

本次参加的CCMR今年已经是第9届国际会议,是材料和器件应用领域重要的国际学术会议,每次会议都有数百名学术界和企业界专家参与,会议邀请若干本领域不同方向具有学术代表性的学者参加,邀请报告每人30分钟,讲述最新学术进展,并开展充分讨论。本人在这次邀请报告中重点论述了宽禁带GaN材料的优势,以及在功率电子器件和传感器中的新应用,强调了GaN器件在高温、高压、强辐射环境中的独特优势,同时介绍了本团队的最新工作进展和未来规划,邀请国际同行专家来大连理工开展学术访问、交流合作。本次报告得到了与会专家们的积极回馈,俄罗斯、日本和新加坡的专家们对报告研究进展表现出了较大的兴趣,十分关注下一步的研究成果。在本次学术会议和交流访问过程,本人同样和国内的物理所、理化所、金属所、合肥科学院等院所的专家老师们展开了充分的学术交流,达成了未来开展技术合作和学术交流互访的初步计划。通过本次国际会议,加深了国内外该领域前沿研究的进一步了解,巩固和加强了与外校学术团队的交流合作,形成了若干科研新思路,有助于加快下一步科研进程。